可分為直流濺射；射頻濺射；磁控濺射；反應濺射四種。目前，直流濺射（又稱二次濺射）因其濺射壓力高、電壓高、濺射速率低、薄膜不穩定等缺點而很少使用在直流濺射的后期，
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主要是指一種需要在高真空下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發、磁控濺射、感應蒸發等多種方式，主要分為蒸發和濺射。
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是利用加熱待蒸發材料，使其附著在基材表面上，蒸發后冷凝成膜的裝置。其原理是利用加熱蒸發，將鋁霧化均勻的附著在基材的表面，
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是提供一種卷繞式真空鍍金、銀、銅、鋁等合金層方法，具有電流導通、電磁波防護、屏蔽信號干擾的鍍金銀銅合金層，
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是由真空系統、卷繞系統、磁控靶濺射系統、控制系統等部分組成，可實現2μm——?300μm的厚度薄膜上濺射鍍銅、鉛、鋁、錫、銀等，
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也就是真空卷繞鍍膜。是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控制、
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是指利用鍍膜技術將紙張類進行鍍膜的設備，產品主要用于元寶，祭祀、拜祭等。其原理是用蒸發鍍膜通過加熱鋁絲使表面組分
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是一臺高真空綜合設備，具有蒸發、濺射多種鍍膜方式同時使用功能，本設備主要用于在薄膜基材上連續蒸鍍單面、
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